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薄膜衬底 >> GaN 薄膜基片 >> 氧化镁(MgO)
氧化镁(MgO)
 

03
 
简要介绍
       氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
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详细参数

 

主要性能参数

生长方法

弧熔法(fa)

晶体结构

立方

晶格常数

a=4.130 Å 

熔点(

2800

纯度(du)

99.95%

密度(du)(g/cm3

3.58

硬度

5.5mohs

热膨胀系数(/

11.2x10-6

晶体解理面

<100>

光学透(tou)过

>90%200~400nm),>98%500~1000nm

介电常数

ε= 9.65

热导率(卡/度 厘米 秒(miao))

0.14  300°K

尺寸

10x310x510x1015x15,,20x1520x20

dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

厚度

0.5mm1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

<001>±0.5º

晶(jing)面定向精度:

±0.5°

边缘(yuan)定向(xiang)精度:

(特(te)殊要求可达(da)以内)

斜切(qie)晶片

可按(an)特定需求,加工边缘取向(xiang)的晶(jing)面按(an)特定角(jiao)度倾(qing)斜(倾(qing)斜角(jiao)45°)的晶片(pian)

Ra:

≤5Å5µm×5µm

主要特点

 由于MgO单晶在微波(bo)波(bo)段(duan)的介电常数和损耗都很小,且能得(de)到大面积(ji)的基片(直(zhi)径2英(ying)吋及更大),所以是当前(qian)产业化(hua)的重(zhong)要(yao)高温(wen)超导薄(bo)膜单(dan)晶基片之一(yi)。

主要用途

用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和(he)高温超导薄膜等,也可用(yong)于(yu)制作移动通(tong)讯(xun)设备所需的高温超导(dao)微波(bo)滤(lv)波(bo)器(qi)等器(qi)件。

包装

100级洁净袋(dai),1000级超净室

 
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